LOADING
دستگاه حکاکی پلاسما
ICP-RIE SI 500 series
چگونه این محصول را خریداری کنم؟
درخواست قیمت
درخواست مشاوره و مدارک فنی
پرسش
خدمات خرید VIP
شما می توانید از سرویس رایگان نمایشگاه استفاده نموده و درخواست خود را مستقیما به شرکت سازنده ارسال نمایید و پس از دریافت قیمت و با ورود اطلاعات به " ماشین محاسبه قیمت ریالی " از قیمت ریالی کالا بصورت تخمینی مطلع شوید . اگر مایلید مکاتبه با شرکت سازنده ، تبادل اطلاعات و دریافت قیمت ارزی و ریالی توسط کارشناسان این مجموعه انجام شود لطفا از این طریق اقدام فرمایید. استفاده از این سرویس مستلزم پرداخت هزینه است . برای دریافت اطلاعات بیشتر با تلفن 41995 تماس حاصل فرمایید.
ادامه
ادامه
در صورتی که قیمت ارزی محصول را در اختیار دارید پس از عضویت و ورود به سایت می توانید فرم مربوطه را تکمیل و به همراه تصویر پرفورمای شرکت سازنده ارسال نمایید تا کارشناسان ما در اسرع وقت نسبت به محاسبه هزینه های حمل و ترخیص و صدور پیش فاکتور ریالی اقدام نمایند. هزینه استفاده از این سرویس برای هر درخواست 25 یورو می باشد. صنایع معظم در صورت تمایل به استفاده از این خدمات می توانند بدون نیاز به عضویت و پرداخت هزینه درخواست خود را به همراه کپی پرفورمای شرکت سازنده به ایمیل enquiry@iranindustryexpo.com و یا فاکس 88206264 بنام شرکت مهندسی و بازرگانی مشگاد ارسال نمایند.
در صورت عقد قرار داد مبلغ دریافتی به حساب خریدار عودت می شود.
ادامه
افزودن به لیست علاقه مندی ها
سایر سازندگان این محصول
درخواست قیمت ریالی
اگر مجموعه شما جزو صنایع مادر و معظم در فیلد پالایشگاه ، پتروشیمی ، حفاری ، نیروگاه ، معادن و فلزات ، خودروسازی ، تولید مواد غذایی و دارویی و.... می باشد لطفا درخواست خود را بر روی سربرگ به فاکس 88206264 و یا ایمیل enquiry@iranindustryexpo.com بنام شرکت مهندسی و بازرگانی مشگاد ارسال فرمایید.
کارشناسان این مجموعه در اسرع وقت با شما تماس خواهند گرفت .
مشخصات فنی
-
Other characteristics:
desktop
-
Technique:
mechanical
-
Technique:
plasma
The SI 500 represents the leading edge for inductive coupled plasma (ICP) processing in research and production. It is based on the ICP plasma source PTSA, dynamic temperature controlled substrate electrode, fully controlled vacuum system, advanced SENTECH control software using remote field bus technology, and a very user-friendly general user interface for operating the SI 500. Flexibility and modularity are design characteristics of the SI 500.
A large variety of substrates from wafers up to 200 mm diameter to parts loaded on carriers can be processed in the SI 500 ICP plasma etcher. The single wafer vacuum loadlock guarantees stable process conditions and allows easy switch of processes.
The SI 500 ICP plasma etcher can be configured for processing of a variety of materials, including but not limited to III-V compound semiconductors (GaAs, InP, GaN, InSb), dielectrics, quartz, glass, silicon, silicon compounds (SiC, SiGe), and metals.
SENTECH offers different levels of automation ranging from vacuum cassette loading to one process chamber up to six port cluster with different etch and deposition modules targeted to high flexibility or high throughput. The SI 500 ICP plasma etcher is available as process module on cluster configuration as well.
A large variety of substrates from wafers up to 200 mm diameter to parts loaded on carriers can be processed in the SI 500 ICP plasma etcher. The single wafer vacuum loadlock guarantees stable process conditions and allows easy switch of processes.
The SI 500 ICP plasma etcher can be configured for processing of a variety of materials, including but not limited to III-V compound semiconductors (GaAs, InP, GaN, InSb), dielectrics, quartz, glass, silicon, silicon compounds (SiC, SiGe), and metals.
SENTECH offers different levels of automation ranging from vacuum cassette loading to one process chamber up to six port cluster with different etch and deposition modules targeted to high flexibility or high throughput. The SI 500 ICP plasma etcher is available as process module on cluster configuration as well.