LOADING
دستگاه حکاکی پلاسما
RIE Etchlab 200
چگونه این محصول را خریداری کنم؟
درخواست قیمت
درخواست مشاوره و مدارک فنی
پرسش
خدمات خرید VIP
شما می توانید از سرویس رایگان نمایشگاه استفاده نموده و درخواست خود را مستقیما به شرکت سازنده ارسال نمایید و پس از دریافت قیمت و با ورود اطلاعات به " ماشین محاسبه قیمت ریالی " از قیمت ریالی کالا بصورت تخمینی مطلع شوید . اگر مایلید مکاتبه با شرکت سازنده ، تبادل اطلاعات و دریافت قیمت ارزی و ریالی توسط کارشناسان این مجموعه انجام شود لطفا از این طریق اقدام فرمایید. استفاده از این سرویس مستلزم پرداخت هزینه است . برای دریافت اطلاعات بیشتر با تلفن 41995 تماس حاصل فرمایید.
ادامه
ادامه
در صورتی که قیمت ارزی محصول را در اختیار دارید پس از عضویت و ورود به سایت می توانید فرم مربوطه را تکمیل و به همراه تصویر پرفورمای شرکت سازنده ارسال نمایید تا کارشناسان ما در اسرع وقت نسبت به محاسبه هزینه های حمل و ترخیص و صدور پیش فاکتور ریالی اقدام نمایند. هزینه استفاده از این سرویس برای هر درخواست 25 یورو می باشد. صنایع معظم در صورت تمایل به استفاده از این خدمات می توانند بدون نیاز به عضویت و پرداخت هزینه درخواست خود را به همراه کپی پرفورمای شرکت سازنده به ایمیل enquiry@iranindustryexpo.com و یا فاکس 88206264 بنام شرکت مهندسی و بازرگانی مشگاد ارسال نمایند.
در صورت عقد قرار داد مبلغ دریافتی به حساب خریدار عودت می شود.
ادامه
افزودن به لیست علاقه مندی ها
سایر سازندگان این محصول
درخواست قیمت ریالی
اگر مجموعه شما جزو صنایع مادر و معظم در فیلد پالایشگاه ، پتروشیمی ، حفاری ، نیروگاه ، معادن و فلزات ، خودروسازی ، تولید مواد غذایی و دارویی و.... می باشد لطفا درخواست خود را بر روی سربرگ به فاکس 88206264 و یا ایمیل enquiry@iranindustryexpo.com بنام شرکت مهندسی و بازرگانی مشگاد ارسال فرمایید.
کارشناسان این مجموعه در اسرع وقت با شما تماس خواهند گرفت .
مشخصات فنی
-
Other characteristics:
desktop
-
Technique:
mechanical
-
Technique:
plasma
The Etchlab 200 RIE plasma etcher represents a family of direct load plasma etcher combining the advantages of a parallel plate electrode design for RIE with the cost effective design of direct load. The Etchlab 200 features simple and fast sample loading from parts to 200 mm or 300 mm diameter wafer directly onto the electrode or on carrier. Flexibility, modularity, and a small footprint are design characteristics of the Etchlab 200. Large diagnostic windows located at the top electrode and the reactor can easily accommodate the SENTECH laser interferometer or OES and RGA systems. Ellipsometer ports are available for process monitoring using SENTECH insitu ellipsometers.
The Etchlab 200 plasma etcher can be configured for processing of materials that are compatible with wafer direct loading, including but not limited to silicon and silicon compounds, compound semiconductors, dielectrics, and metals.
The Etchlab 200 plasma etcher can be configured for processing of materials that are compatible with wafer direct loading, including but not limited to silicon and silicon compounds, compound semiconductors, dielectrics, and metals.